한국화학연구원, 독성가스 제거 표면처리 기술 개발

한국화학연구원, 독성가스 제거 표면처리 기술 개발

국내 연구진이 독성가스를 효과적으로 막아주는 화학소재 표면처리 기술을 개발했다.

한국화학연구원(원장 이규호)은 그린화학공정연구본부 황영규 책임연구원, 홍도영 선임연구원 연구팀이 방독면 등에 사용가능한 나노소재 표면 처리 기술을 개발했다고 6일 밝혔다.

이 기술은 유해 가스가 호흡기로 침투하는 것을 효과적으로 막을 수 있다. 방독면 등에 활용 가능하다.

이 연구결과는 영국왕립화학회에서 발행되는 국제과학저널 케미컬 커뮤니케이션즈 5월호 속표지논문으로 게재됐다.

연구팀은 물을 흡수하지 않는 특성을 가진 화합물(유-무기 실란화합물)을 하이브리드 나노세공체 세공 입구에만 결합해 수분 안전성을 크게 향상시켰다. 기존 나노세공체는 독성 가스 제거용 흡착제로 주목받고 있으나 습기가 많으면 흡입가스를 막지 못하는 단점이 있었다.

연구팀이 활용한 화합물 분자는 나노세공체가 갖고 있는 세공입구보다 커 유해가스를 들여보내지 않는다.

이 연구는 국방과학연구소 선행핵심연구사업 지원을 받았다.

이규호 원장은 “독성 가스로부터 취약한 산업인력 안전을 보호하고, 화학무기로부터 국민 안전을 지킬 수 있는 기술”이라며 “향후 암모니아 등 독성 유해 가스를 흡착할 수 있는 소재 표면처리에 광범위하게 응용될 수 있을 것”으로 기대했다.

대전=박희범기자 hbpark@etnews.com