[세미콘코리아2017]한국폴, 케미컬 파티클 여과장치 출품… 5나노급 이물질 걸러내

한국폴 세정 공정용 필터여과장치 익스프레스클린 G2.
한국폴 세정 공정용 필터여과장치 익스프레스클린 G2.
한국폴 포토레지스트 필터여과장치 포토클린 EZD
한국폴 포토레지스트 필터여과장치 포토클린 EZD

필터여과 기술 전문업체 한국폴은 내달 8일부터 10일까지 서울 삼성동 코엑스에서 개최되는 세미콘코리아 2017 전시회에 참가해 다양한 반도체 공정용 케미컬 필터 장치를 선보인다고 밝혔다. 폴은 이 분야에서 70년 이상 업력을 가진 미국 업체다. 연간 매출액은 약 3조원에 이른다. 1991년 국내 시장에 진출해 주요 반도체 제조업체에 세정 혹은 노광 공정용 케미컬 재료의 파티클을 걸러내는 필터 장치를 공급 중이다.

케미컬 재료는 웨이퍼와 직접 닿기 때문에 파티클이 함유돼 있다면 수율이 떨어질 수밖에 없다. 한국폴의 필터여과 부품은 케미컬 공급장치에 붙어 파티클을 걸러낸다. 정수기 필터를 떠올리면 이해가 쉽다.

한국폴의 주력 제품은 세정, 노광 공정용 PTFE(Polytetrafluoroethylene) 테프론 재질 필터다. 이소프로필알콜(IPA) 등 각종 케미컬 재료에서 5나노미터(㎚)급 크기의 파티클을 걸러낼 수 있다. 테프론은 불소, 탄소, 수소로 구성된 중합체로 불소수지로도 불린다. 내열성, 내마모성, 내화학성, 내부식성이 높다. 독성과 부식성이 강한 케미컬 재료의 파티클을 걸러내는 데 최적이다. 흡착능력이 좋은 나일론 재질 필터 제품군도 갖추고 있다.

폴의 핵심 역량은 필터에 매우 미세한 구멍을 뚫는 미세 가공 기술이다. 구멍이 작아지면 파티클을 걸러낸 케미컬 재료의 공급 속도가 떨어질 수밖에 없다. 구멍을 매우 촘촘하면서도 일관되게 뚫어야 공급 속도가 떨어지지 않는다. 폴은 이 분야에서 기술력을 인정받고 있다.

한국폴 관계자는 “5나노에 이어 2나노 파티클을 걸러낼 수 있는 제품도 조만간 출시할 예정”이라면서 “세미콘코리아 2017에서 회사 기술력을 국내 고객사에 적극 알리겠다”고 말했다.

한국폴은 국내에 응용기술연구소를 운영한다. 고객사 요구에 맞춰 필터 불량 분석, 기술 업데이트 등 다양한 지원 서비스를 실시한다. 반도체 분야 외 생명공학이나 기타 산업 분야에도 필터 여과 장치를 공급하기 위해 지난해부터 국내 투자를 확대하고 있다는 것이 폴 관계자의 설명이다.

한주엽 반도체 전문기자 powerusr@etnews.com