윕스, 국내 포토레지스트 출원 특허 64% 일본 기업이 차지…특허 기술 권리 사실상 독점

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윕스, 국내 포토레지스트 출원 특허 64% 일본 기업이 차지…특허 기술 권리 사실상 독점

일본이 한국을 화이트리스트 국가에서 배제한 가운데 우리나라 특허청에 출원한 포토레지스트 전체 특허 중 64%가 일본 기업인 것으로 파악됐다. 일본 기업이 반도체 강국인 한국에서 반도체 소재 기술 권리 확보를 위해 포토레지스트 특허를 사실상 독점 지배하고 있는 셈이다.

지식재산(IP)전문기업 윕스(대표 이형칠)는 포토레지스트 재료 관련 특허청에 등록한 특허 1만2000건 중 6200여건이 특허 권리가 살아 있고 전체 특허 출원의 약 64%가 일본기업이고 국내 기업은 27%에 불과한 것으로 나타났다고 11일 밝혔다.

권리가 살아 있는 특허에 대한 상위 출원기업은 동우화인켐, 도쿄오카공업, 후지필름, 신에츠케미컬, 삼성SDI, 스미토모케미컬 등 순으로 나타났다. 삼성SDI만이 국내 기업인 것으로 파악됐다.

특히 10㎚ 이하 반도체 생산에 필요한 극자외선(EUV) 포토레지스트 국내 출원 특허는 약 1300건 정도인데 출원 특허 기업의 약 70%가 일본기업이다. 국내기업은 삼성SDI(87건), SK하이닉스(36건), 삼성전자(28건), 코오롱(22건) 동진쎄미켐(16건), 금호석유화학(16건) 정도로 나타났다.

반면 일본 특허청에 포토레지스트 재료와 관련 출원된 특허는 현재 총 2만9000여건이다. 일본 특허청 출원 특허 중 현재 기술적 권리가 살아 있는 특허는 9400여건이다. 이중 가장 많은 특허출원을 한 기업은 후지필름이다. 약 1500건을 보유하고 있다. 그 다음으로 도쿄오카공업(904건), JSR(873건), 신에츠케미컬(643건), 스미토모케미컬(510건) 등 순이다.

포지티브형 포토 레지스트 관련 약 5600여건의 특허가 일본에 출원되고 있다. 후지필름, 도쿄오카공업, 신에츠케미컬, 스미토모케미컬, JSR, 히타치케미칼 등 기업 출원이 눈에 띈 것으로 파악됐다.

윕스 관계자는 “정부 반도체 소재 국산화 정책으로 연구개발에 탄력을 받겠지만 일본이 반도체 소재 시장에서 독점적 지위를 확보한 만큼 연구개발을 추진하는 과정에서 일본특허 기술 원리를 파악하고 이를 우회하는 연구개발을 추진해야 한다”고 말했다.

안수민기자 smahn@etnews.com