日서 전량 수입했던 반도체 공정 코팅 소재 국산화

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그동안 전량 일본에서 수입해 온 반도체 공정용 코팅 소재를 국내 중소기업이 국산화 했다. 이르면 다음달 중 실제 생산라인에 적용할 수 있게 될 전망이다.

용사코팅 전문업체 세원하드페이싱(대표 곽찬원)은 홍용철 국가핵융합연구소 박사팀과 공동으로 반도체 공정에 사용하는 '이트륨 옥사이드(Y₂O₃)' 코팅 소재를 개발, 국내 주요 반도체 기업과 품질 테스트를 진행하고 있다고 20일 밝혔다.

이 회사가 개발한 이트륨 옥사이드는 고가의 희토류로 근자외선부터 적외선 영역까지 코팅에 사용하는 중간 굴절률 저흡수성 물질이다. 반도체 공정 플라즈마 에처와 화학증착장비(CVD) 내부 코팅에 주로 사용한다.

세원하드페이싱은 플라즈마에서 분해한 기체 이온을 표면에 흡착시켜 분자간에 작용하는 반데르발스 인력으로 인한 분말 응집 현상을 제거하는 특허 기술을 개발하고, 이 기술을 활용해 미세 분말 상태에서도 응집하지 않는 이트륨 옥사이드 코팅 소재를 개발했다.

세원하드페이싱이 개발한 반도체 공정용 코팅 소재.
<세원하드페이싱이 개발한 반도체 공정용 코팅 소재.>

이를 통해 용사코팅에서도 치밀한 코팅막을 구현, 국내는 물론이고 미국과 일본에도 특허를 출원했다.

이 회사는 지난 2012년 전남테크노파크 세라믹산업종합지원센터 성장사다리 육성기업으로 선정돼 첨단장비를 지원받아 용사코팅 연구개발을 시작, 2016년 전남 목포세라믹산업단지에 50억원을 투자해 극한환경용 이트리아 안정화 지르코니아(YSZ) 용사코팅소재 양산체제를 구축했다. 최근에는 반도체용 이트롬 옥사이드 코팅소재의 양산화를 위해 30억원을 투자했다.

문흥수 세원하드페이싱 연구소장은 “국가기술개발사업에 참여하고 연구소와 협업해 기술개발 및 국산화를 이룰 수 있었다”며 “이번 소재 국산화를 시작으로 다른 분야 코팅 소재에 응용 가능성을 확인했다”고 말했다.

목포=김한식기자 hskim@etnews.com