[e월드]중국-중국 고청정·고순도 시제(試劑) 시장 현황

📁관련 통계자료 다운로드세척시제와 국제 SEM1 표준의 비교 중국에서는 지난 70년대 중반부터 고청정·고순도 시제(Ultra-clean and High purity Reagents)를 연구·개발하기 시작했다. 이어 1980년에는 베이징화학시제연구소가 중·소규모 5㎛ 칩제작 기술에 사용되는 22개종의 금속산화반도체(MOS, Metal Oxide Semiconductor)용 시제를 처음으로 생산했다. 현재 상하이화학시제총공장, 톈진제3시제공장 등에서 MOS용 시제를 생산하고 있는데 연 생산규모는 3000톤 정도다.

 고청정·고순도 시제는 반도체 칩의 세척 및 부식, 규소 웨이퍼 표면세척 과정에서 불가결한 제품이다. 시제의 순도 및 정밀도는 집적회로(IC) 완제품률, 칩의 성능 및 신뢰성에 중요한 역할을 하기 때문에 기술적 요구가 높은 것은 물론 품목도 매우 다양하다. 또 저장 유효기간이 짧고 부식성능이 강한 특징을 갖고 있다.

 한편 최근 들어서는 집적회로의 집적도가 계속 높아짐에 따라 고순도 세척시제의 용해성 불순물 및 고형입자에 대한 기준이 날로 까다로워지고 있고 생산환경과 포장방식 및 포장소재에 대한 요구도 높아지고 있다.

 중국에서는 지난 90년대 후반 BV-Ⅰ급, BV-Ⅱ급, BV-Ⅲ급 세척시제 연구·생산에 성공했으며 이들 가운데 BV-Ⅲ급 세척시제는 마이크로미터(㎛)급 기술(1∼4M)의 가공기준에 도달해 있다. 또 지난 2000년에는 연간 생산규모가 500톤에 이르렀다. 이와 함께 베이징화학시제연구소에서는 0.2∼0.6㎛ 기술을 필요로 하는 BV-Ⅳ급 세척시제의 연구에 큰 발전을 이룩해 부분적 제품의 기술 지표는 국제 SEM1-C8 표준을 넘어 SEM1-C12 표준에 접근해 있는 상황이다.

 하지만 중국의 세척시제 연구·개발 및 생산은 선진국에 비해 10년 이상의 차이를 보이면서 그 격차가 날로 커지고 있다. 선진국과의 차이점을 구체적으로 살펴보면 무엇보다 기술적인 격차가 큰 것이 문제로 지적된다. 선진국들은 응용분야별로 품목이 다양하게 계열화되고 주변제품이 대부분 갖추어져 있는데 반해 중국 제품은 품목이 적고 계열화 수준이 낮으며 생산기술이 낙후돼 있다. 여기에다 원가마저 높은 상황이다.

 또 중국은 지원산업이 뒤처져있으며 고청정·고순도 시제를 연구 생산하는 토종업체들은 생산과 품질 보장에 필요한 계기 및 장비들이 노후해 교체 필요성이 있지만 막대한 투자가 필요해 업그레이드가 어려운 실정이다. 포장 소재 또한 품질이 따르지 못하고 있으며 이밖에 과거 세척시제 연구인력들이 거의 은퇴한 가운데 새로운 인력들은 부족한 반면 인력유출 현상은 한층 심각해져 가고 있다.

 고청정·고순도 시제 연구·개발은 많은 투자가 있어야 하고 위험부담이 크다. 실제 전문가들은 막대한 자금의 지원이 없이는 높은 수준의 제품을 개발할 수 없다고 지적한다. 하지만 이에 대한 정부의 투자는 날로 줄어들어 업체들에서는 저수준의 기존 품목밖에 생산할 수 없는 실정이다.

 그러나 수요는 계속 늘고 있다. 베이징의 마이크로 전자기술이 급부상하고 있고 특히 북방 마이크로 전자기지가 구축됨에 따라 베이징 수강NEC를 축으로 집적회로 및 부품 생산업체들이 속속 설립되면서 고청정·고순도 시제 수요가 꾸준히 늘고 있다. 오는 2005년까지 베이징 권역만 하더라도 매년 3000톤 이상의 수요가 예상된다. 또 상하이 화훙NEC를 중심으로 상하이 마이크로 전자산업에서 연간 수요량은 5000톤에 이르고 있다. 하지만 고청정·고순도 시제 수입제품의 관세는 10%를 넘어서고 있기 때문에 수입원가가 높아 국산화가 시급한 실정이다.

 반도체부품 생산분야에서는 중국의 20여개 주력 생산업체들에서 매년 200개 이상의 부품을 생산하고 있고 향후 생산규모가 계속 확장될 것으로 예상되고 있어 고청정·고순도 시제 품질에 대한 요구가 높아지면서 수요량 또한 큰 폭으로 늘어날 것으로 전망된다. 액정 모니터 생산업체 10여개사의 수요량도 적지 않다.

 이처럼 현재 중국 집적회로, 부품 및 액정모니터 생산업체들의 시제 수요량을 모두 합하면 2만톤이 넘어선다.

 특히 북방 마이크로 전자기지, 상하이 마이크로 전자기지 및 선전 마이크로 전자기지의 향후 발전계획에 근거해보면 고청정·고순도 시제 수요는 한층 커진다. 한마디로 이의 연구·개발을 위한 거대한 토대가 마련되어 있는 셈이다.

 일단 BV-V급 고청정·고순도 시제가 시장의 기술 기준에 도달하면 북방 마이크로 전자기지, 상하이 마이크로 전자기지 및 선전 마이크로 전지기지는 물론 중국 화징전자, 시안 제771연구소, 중국화싱전자 등 업체들에서 대량 수요가 발생할 것으로 예측된다. 또 전자부품 생산규모도 급속히 늘고 있어 전체적으로 보면 중국에서 매년 고청정·고순도 시제 수요규모는 2만∼3만톤에 이를 것으로 예상된다.

 이에 따라 중국 정부는 세척시제 연구에 주력할 계획이다. ‘제10차 5개년 계획(2001∼2005년)’에 따르면 중국 정부는 5개년 계획 전반기동안 0.2∼0.6㎛ 기술에 필요로 하는 세척시제 연구·개발에 주력하는 한편 0.09∼0.2㎛기술에 필요로 하는 세척시제 연구에 돌입할 것으로 전망되고 있다.