반도체 표면 처리용 플라즈마 기술 특허 출원이 지난 5년 동안 무려 34배나 증가한 것으로 나타났다. 반도체 시장이 호황을 누리면서 반도체 표면 처리용 플라즈마 처리 장치 관련 수요가 크게 늘고 있기 때문인 것으로 풀이된다.
특허청이 3일 발표한 '플라즈마 출원 동향'에 따르면 지난 2012년 15건이던 플라즈마 기술 특처 출원이 지난해 165건으로 10배 이상 늘었다. 특히 4건에 불과하던 반도체 표면 처리용 플라즈마 처리 장치 관련 특허 출원은 136건으로 폭증했다.
플라즈마를 이용한 표면 처리 기술은 기체 상태의 입자를 기판이나 물건의 표면에 쏘아 절연막 또는 전도성 막 등 얇은 막을 형성하는 기술이다. 기존의 증착 방식에 비해 낮은 온도에서의 작업이 가능하고, 막의 두께를 균일하게 조절할 수 있으며, 더욱 세밀하게 의도하는 형태로 만들 수 있다.
플라즈마는 물질 표면이나 공기에 포함된 오염물질 분해 및 제거 효과가 있을 뿐만 아니라 살균 및 상처 치료에도 적용할 수 있어 환경, 식품, 바이오, 의료, 미용 등 다양한 분야로의 활용 폭이 넓어질 것으로 전망된다.
특히 대량 처리가 가능한 데다 화학 약품을 사용하지 않는 친환경 기술이어서 플라즈마를 활용하려는 산업 분야는 계속 확대되는 추세를 보이고 있다. 특허청도 플라즈마를 이용한 표면 처리 장치 특허 출원이 급증한 이유로 '적용하기 쉽다'는 점을 들었다.
산업계에서도 이 기술을 반도체 고밀도 집적회로(IC) 등 정밀 제조 공정과 디스플레이, 유리창, 섬유 등 다양한 분야에 활용하고 있다.
성백문 특허청 전력기술심사과장은 “플라즈마가 반도체 및 디스플레이 산업은 물론 바이오 분야에서의 살균과 녹조 제거, 환경 분야에서의 자동차 매연 저감 장치, 의학 분야에서의 치아 미백 및 기미 치료 등과 같은 새로운 응용 분야에서 기술 수요가 계속 증가하고 있다”면서 “플라즈마 관련 기술 출원이 당분간 꾸준히 증가할 것으로 예상된다”고 말했다.
<플라즈마 관련 특허 출원 현황>
<내국인 출원 현황>
<세부 기술 현황>
대전=신선미기자 smshin@etnews.com
