[테크위크 2020 LIVE]"기술력으로 무장" 국내외 반도체 소부장 업체들도 시선

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정재철 MKS 파워솔루션즈아시아 상무가 자사 RF 플라즈마 기술을 발표하고 있다.
<정재철 MKS 파워솔루션즈아시아 상무가 자사 RF 플라즈마 기술을 발표하고 있다.>

'테크위크 2020 LIVE' 마지막 날에는 반도체 업계에서 '기술력'으로 승부수를 띄운 국내외 소재·부품·장비 회사들이 연사로 나서 큰 주목을 받았다.

세계적인 반도체 장비 부품업체 MKS에서는 MKS 파워솔루션즈아시아에서 연구소장을 맡고 있는 정재철 상무가 무대에 올라 차세대 고주파수(RF) 제너레이터와 매처 기술을 공유했다.

제너레이터와 매처는 반도체 장비 안에서 자동차 엔진같은 역할을 한다. 이 부품들은 웨이퍼 위에 얇은 막을 씌우고, 회로 모양을 깎는 '플라즈마'를 만들기 위해 전력을 생성하고 반도체 장비로 전달한다. 전력 수준이 더 높고 일정하게 장비에 전달될수록, 더 미세한 반도체를 만들 수 있다.

MKS RF제너레이터. <사진=MKS 발표자료>
<MKS RF제너레이터. <사진=MKS 발표자료>>

정 상무는 현재 MKS의 제너레이터는 3중 주파수를 활용, 업계 최고 수준인 100㎾ 전력 생산 수준에 도달했다고 밝혔다. 또 RF 매처는 제너레이터에서 생산한 전력을 기존보다 더욱 효율적으로 전달하는 '전자식 매처' 활용도가 높아질 것으로 점쳤다.

정 상무는 “전자식 매처 시대가 이르면 5년 안에 다가올 것”이라면서 “MKS는 하이브리드 구조의 전자식 매처를 개발해 장비 적용을 시도 중”이라고 설명했다.

그는 고도화한 펄스, 이온에너지 분포 제어 기술 등 다양한 MKS만의 차세대 RF 플라즈마 기술도 공개했다. 정 상무는 “국내 RF 생태계를 확장하기 위해 MKS가 다양한 노력을 기울일 것”이라고 강조했다.

극자외선(EUV) 반도체 공정 시대에서 주목받는 장비 기술 회사인 이솔의 이동근 부사장은 '간섭 EUV 광을 활용한 EUV 마스크 생산설비'를 주제로 발표했다.

이동근 이솔 부사장이 테크위크 2020 LIVE에서 발표하고 있다.
<이동근 이솔 부사장이 테크위크 2020 LIVE에서 발표하고 있다.>

이솔은 장비에 들어가는 EUV 광원을 직접 만들 수 있는 업체다. 차세대 공정에 필요한 광원을 독자 기술로 만들 수 있는 회사는 세계적으로 드물다. 특히 마스크 결함을 리뷰하는 SREM의 경우 장비 공급을 위해 고객사와 테스트 작업에 한창이다.

이 부사장은 “마스크 검사에 필요한 기존 렌즈를 '존플레이트 렌즈'로 대체하면서 렌즈 가격을 500분의 1 수준으로 낮췄다”고 전했다.

이솔 기술 개발 현황과 로드맵. <사진=이솔 발표 자료>
<이솔 기술 개발 현황과 로드맵. <사진=이솔 발표 자료>>

이솔은 이 광원으로 S렘(SREM), 에밀레(EMiLE) 등 EUV용 마스크, 포토레지스트, 펠리클 결함을 낮은 가격으로 측정할 수 있는 다양한 장비를 개발, 양산 준비 중이다. 이 부사장은 “하이(High)-NA 시대 이후 수요에도 대응할 수 있는 장비를 지속 개발 중”이라고 밝혔다.

그래프코어 IPU-머신 M2000. <사진=그래프코어 발표자료>
<그래프코어 IPU-머신 M2000. <사진=그래프코어 발표자료>>

인공지능(AI) 반도체 업계에서 주목받는 영국 칩 스타트업 그래프코어는 토마스 윌슨 그래프코어 부사장이 '그래프코어 콜로서스 인텔리전스 프로세싱 유닛(IPU)'을 소개했다.

그래프코어의 'IPU'라는 독특한 콘셉트의 AI 칩은 기존 프로세서와 달리 1200개 이상의 코어에 S램(SRAM)을 탑재, 별도 외부 메모리 없이도 정보처리를 빠르게, 효율적인 전력으로 할 수 있는 것이 가장 큰 장점이다. 최근 2세대 서버용 IPU 모듈을 출시했다.

이날 질의응답 세션에서 관객들과 소통한 강민우 그래프코어한국지사 지사장은 “현재는 7나노 공정을 활용해 TSMC에서 칩을 양산 중”이라면서 “삼성전자와 3세대 이상 제품 개발을 협력할 가능성이 있다”고 말해 눈길을 끌었다.

강해령기자 kang@etnews.com