머크, 유해물질 제거 '반도체 PR 리무버' 출시

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머크가 친환경성을 강화한 포토레지스트(PR) 리무버 'AZ 910'을 출시했다.

반도체 공정 중 패터닝된 포토레지스트를 제거하는 데 사용하는 신제품은 인체 유해한 N-메틸피롤리돈(NMP)을 사용하지 않는 것이 특징이다. 또 디메틸아세트아마이드(DMAC), 다이메틸설폭사이드(DMSO), 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH)를 포함하지 않고서도 레지스트를 제거할 수 있는 용해력을 갖췄다. 회사 관계자는 “포토레지스트 전체 부피 대비 3배 미만 용액으로도 충분히 제거할 수 있어 비용 절감이 가능하다”고 덧붙였다.

반도체 웨이퍼 <사진=머크>
<반도체 웨이퍼 <사진=머크>>

윤건일기자 benyun@etnews.com