국내 연구진의 나노기술 특허가 국제 발명대회에서 상을 휩쓸었다.
포스텍은 이규철 교수(신소재공학과) 연구팀의 ‘나노 막대’ 연구가 스위스 제네바에서 열린 ‘제36회 2008 제네바 국제발명·신기술 전시회’에서 금상과 특별상, 개인특별상을 수상했다고 18일 밝혔다.
이번 전시회에 이 교수 연구팀은 ‘나노 디바이스 및 이를 포함하는 트랜지스터의 제조 방법’을 출품했다. 이 특허는 나노벽, 나노튜브의 형상과 크기를 자유자재로 조절, 실리콘 기판 원하는 위치에 만들어내는 기술과 방법을 연구한 것이다.
기존에 사용돼 왔던 촉매나 깎아내는 방식인 광식각 공정을 사용하지 않아 나노 구조물의 오염 및 표면 손상이 전혀 없어 우수한 품질의 반도체 나노소재 및 소자를 대량으로 생산할 수 있다는 평가를 받고 있다. 특히 기존의 실리콘 기반 공정을 그대로 사용해 적은 생산비용으로도 대면적 공정이 가능하다는 장점을 가지고 있다.
이 교수는 “이 기술은 나노구조물의 위치, 크기와 모양을 매우 쉽게, 자유자재로 조절할 수 있는 반도체 제조의 원천기술”이라며 “기존의 광식각 공정의 한계를 극복할 수 있으므로 고품질, 고집적의 광소자와 전자소자 제조 등 다양한 응용 분야에 유용하게 활용될 수 있다”고 설명했다.
한편, 이번 연구결과는 신소재 분야의 세계적 학술지 ‘어드밴스드 머티리얼스’에 출판될 예정이다.
이성현기자 argos@