TSMC가 2028년 양산을 목표로 하는 A14 공정에서 6T 고밀도 S램(Static Random-Access Memory 비트셀 크기를 0.017㎛²(마이크로제곱미터) 미만으로 줄일 예정이다. N5(5나노) 공정이 등장한 2020년 이후 약 8년 동안 0.021㎛²에 머물러 있던 'S램 스케일링'이 재개된다.

26일 업계에 따르면 TSMC는 '0.017㎛²' 미만 세계 최소 S램 셀 크기와 최고 수준의 S램 매크로 밀도를 달성했다는 연구 결과를 연말 발표한다. 공개된 기준으로 TSMC A14가 인텔·삼성전자 대비 셀 크기에서 가장 앞서게 된다.

인텔 18A 공정....