일본 캐논과 도쿄일렉트론이 2004년 이후 보급이 예상되는 차세대 반도체 제조기술의 공동 연구에 착수한다고 일본경제신문이 보도했다.
양사는 캐논 공장에서 개발중인 차세대 노광장치와 도쿄일렉트론의 주변 장치를 결합, 차세대 기술의 실용화에 필요한 기술적 과제를 해결할 계획이다.
캐논은 현재 파장이 짧은 불소(F2) 레이저를 사용하는 차세대 노광장치를 개발하고 있다. 공동 연구에 도쿄일렉트론은 노광공정의 전후에 사용하는 레지스터(광광수지) 도포·현상장치를 제공한다.
F2 노광장치는 회로선폭을 현재의 절반인 70㎚로 할 수 있는 차세대 기술 후보 중 하나다. 캐논은 도포·현상장치에 강한 도쿄일렉트론과 손잡고 이 차세대 장치의 실용화를 서두를 방침이다.
<신기성기자 ksshin@etnews.co.kr>