위아코퍼레이션(대표 윤형열)는 `고에너지 레이저 반사형 마스크 및 라인 빔을 이용한 다이렉트 레이저 패터닝 기술`로 NET(New Excellent Technology) 신기술인증을 획득했다고 19일 밝혔다.
이 기술은 대면적 미세 패턴을 형성, 포토 리소그래피 기술을 대체할 수 있다. 포토 리소그래피 장비보다 저렴할 뿐만 아니라 리소 공정용 화학물질을 사용할 필요가 없어 친환경 기술로 불린다. 위아의 기술은 터치스크린패널(TSP) 패턴을 형성하는 데 적합하다.
기술의 핵심은 레이저 반사형 마스크(POM·Patterned Optical Mirror)다. 기존 다이렉트 레이저 패터닝(DLP) 기술은 점 광원과 스캐너를 이용하기 때문에 시간이 오래 걸리는 문제가 있었다. 위아코퍼레이션의 DLP 기술은 POM과 선형 빔을 이용해 공정 시간을 단축시켰다.
구현하고자 하는 패턴과 동일한 모양과 크기 패턴을 갖는 POM을 이용하면 복잡하고 다양한 대형 패턴도 구현할 수 있다. 특히 기존 DLP 공정에서 없었던 극자외선(DUV) 레이저도 사용할 수 있어 커버글라스일체형(G2) TSP처럼 유리나 필름 한 층으로 만드는 TSP 센서 패턴도 제작할 수 있다. 라인 빔의 DUV 레이저로 다층막의 박막 중 상층의 박막만 선택적으로 패터닝할 수 있기 때문이다. 비정질(아모포스) 상태의 ITO에 강화(어닐링)·패턴을 동시에 처리할 수 있는 것도 강점이다. 레이저에 의해 노출된 부분만 폴리화가 가능해 저항이 감소된 부분만 남기는 공정도 가능하다.
윤형열 대표는 “이번에 개발한 친환경 패턴 형성 기술은 ITO·은나노·그래핀 등 다양한 박막에 모두 적용할 수 있어 TSP나 FPCB 등 패턴 형성에 유용할 것”이라며 “국내 레이저 공정 기술 수준을 한 단계 높이는 계기가 될 것”이라고 기대했다.
문보경기자 okmun@etnews.com
