바스프가 초고순도 화학물질인 반도체용 황산(H₂SO₄) 생산능력을 확대한다.
바스프는 본사가 위치한 독일 루트비히스하펜에 수천만 유로를 투자, 반도체용 황산 생산을 위한 최첨단 순도 설비를 구축한다고 8일 밝혔다.
새로운 시설은 2027년 가동이 목표다. 주요 고객사 생산 확장 계획에 맞춰 유럽 내 첨단 반도체 칩 제조 수요 증가에 대응하기 위해서라고 회사는 설명했다.
바스프는 “협력 파트너가 유럽에서 신규 반도체 칩 생산시설은 건설하고 있어, 이번 증설을 통해 생산 기반을 강화하고 고품질 반도체용 황산을 안정적이고 일관되게 공급할 예정”이라고 전했다.
바스프는 세정, 식각, 금속 증착, 화학적 기계 평탄화(CMP) 등 반도체 제조 공정에 사용되는 고순도 단일 및 벌크 화학물질과 특수 화학제형을 공급하는 글로벌 화학 기업이다.
김영호 기자 lloydmind@etnews.com
