[테크비즈코리아 2025]〈8〉한국기초과학지원연구원(KBSI)

한국기초과학지원연구원(KBSI)이 소개하는 기술은 '기체 클러스터 이온빔(GCIB)'을 이용한 저손상·고정밀 표면가공 및 분석 기술'이다.

GCIB는 불활성 고압 기체를 클러스터로 변환해 이온빔으로 출력, 분석 시료를 식각·이온화하는 역할을 한다.

기존 이온빔은 소재 손상이 커 정밀 가공에 한계가 있었다. 반면 GCIB는 혼합가스 비율 제어로 고정밀 가공과 손상 최소화가 가능하다. 유기발광다이오드(OLED), SiO₂, SiC 등 다양한 소재에 균일 식각, 고신뢰도 표면 분석도 수행할 수 있다.

KBSI 개발 기술은 반도체와 디스플레이 제조, 정밀기기 가공, 소재 분석 등 주요 산업군에 적용할 수 있다. OLED·반도체 장비, 표면분석장비, 소재 부품, 극자외선 EUV 마스크 및 반도체 패턴 튜닝, OLED 소재 결함 검출 및 저손상 세정 관련 기업에 매력적인 기술로 주목 받는다.

김영준 기자 kyj85@etnews.com