미국 이온 시스템사는 듀폰 포토마스크사(DPI)와 제휴해 반도체 제조업체들이 정전방류(ESD) 현상으로 인해 포토마스크 레티큘(망선)에 생기는 피해를 방지해주기 위한 서비스 전문업체를 설립키로 했다고 최근 밝혔다.
두 회사는 이를 위해 ESD 탐지 및 평가 기능을 강화한 새로운 ESD 모니터링 툴인 「캐너리(Cannery)」와 EDS 분석 및 모니터링 서비스를 반도체 제조업체에 제공할 예정이다.
이온 시스템의 아널드 스타인만 최고기술관리자(CTO)는 『레티큘 자체의 손상으로 인한 피해는 수천달러에 지나지 않지만, 손상된 포토마스크를 잘못 사용할 경우 위험이 더 커질 수 있다』며 『손상된 포토마스크를 사용해서 입는 손실규모가 반도체업체마다 적어도 5000만달러는 될 것』이라고 주장했다.
함종렬기자 jyham@etnews.co.kr