광학기기의 내부 오염입자 제어장치가 개발됐다.
한국표준과학연구원(KRISS, 원장 김명수) 진공기술센터 강상우 박사팀은 진공장비의 오염입자를 정밀 측정하고 제어할 수 있는 기술을 개발했다고 27일 밝혔다.
이 장치는 오염입자에 대한 측정부터 제거까지 모든 프로세스 제어가 가능하다. 외산 장비에 비해 가격은 절반 이하로 낮췄다.
연구진은 진공상태에서 초음파를 이용해 장비 내부에 퍼져있는 입자 위치를 제어하는 방법으로 측정효율도 높였다. 또 선택적으로 입자 움직임을 제어해 특정위치에 집속된 입자크기를 측정할 수 있다.
기존 반도체, 디스플레이 등 광학기를 사용하는 산업체에서는 광학기기 내부 윈도에 묻어 있는 오염물질을 제거하기가 쉽지 않았다. 오염입자를 측정하기 위해서는 장치 외부에서 레이저를 주사하고 윈도에 투과해 오염물질의 양과 크기를 측정하게 된다. 하지만 윈도가 오염되면 레이저가 윈도를 통해 일정하게 드나들 수 없어 입자에 대한 정확한 측정이 불가능했다.
강상우 박사는 “광학장비의 클리닝 주기를 늘려 다른 장비와 부품 정비 주기를 맞출 수 있어 그만큼 정비 간격이 길어지는 장점이 있다”고 말했다.
대전=박희범기자 hbpark@etnews.com