꿈의 신소재 그래핀을 이용한 광도파 소자 제조 기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다.
그래핀은 반도체 소자 등의 부문에서 신호 속도 등 성능을 획기적으로 개선할 수 있는 재료로 주목받고 있다. 최근엔 KAIST가 기존 메모리보다 기억성능이 1만 배 이상 뛰어난, 그래핀 메모리 소자를 제조해 관심을 끌었다.
한국전자통신연구원(ETRI, 원장 김흥남) 그래핀소자창의연구실 김진태 박사는 KAIST 최성율 전기 및 전자공학과 교수 연구팀과 공동으로 그래핀 기반의 플라즈몬 광도파 소자를 개발했다고 22일 밝혔다.
플라즈몬 광도파는 금속대신 그래핀 재료를 이용해 광과 전자가 결합한 상태로 광신호를 흘려보내는 것을 말한다.
연구진은 화학기상증착(CVD) 방법으로 광신호를 보낼 수 있는 그래핀을 만들어 소자 제작에 활용했다. 그래핀으로 소자를 만들면 화학적 도핑(doping)이나 전기장, 자기장, 게이트 바이어스(bias) 전압 조절 등을 통해 광세기를 자유롭게 제어할 수 있는 장점이 있다.
이 연구결과는 광학분야 국제 저널인 ‘옵틱스 익스프레스’ 11월호에 게재됐다.
김진태 박사는 “이론적으로만 연구되던 그래핀의 특성을 실험적으로 증명했다는 의미가 있다”며 “반도체소자와 광소자를 결합한 차세대 융합 반도체 소자를 만드는데 이번 연구의 목적이 있다”고 말했다.
대전=박희범기자 hbpark@etnews.com
