비아트론이 산업통상부와 한국산업기술기획평가원(KEIT)이 주관하는 '3D 수직 적층 메모리용 에피택시 증착 장비 개발' 과제 주관기관으로 최종 선정됐다고 6일 밝혔다.
본 과제는 올해 4월부터 2028년 12월까지 2년 9개월간 총 100억여 원의 연구비가 투입될 예정이다. 비아트론은 ㈜더블유지에스, 연세대 산학협력단, 한국표준과학연구원과 컨소시엄을 구성해 과제를 수행한다.
회사 측은 △생산성(UPH) 극대화를 위한 급속 온도 가변형 챔버 및 클러스터 시스템 개발역량 △다층막의 결함, 파티클, 두께 등을 실시간으로 확인하는 인-시스템 검사·계측용 광학 모듈 개발역량 등 기술 경쟁력이 주효했다고 설명했다.
비아트론에 따르면 2023년 1조6000억원 규모였던 에피택시 CVD 장비 시장은 3D DRAM이 본격적으로 등장하는 2030년대에 폭발적인 성장이 예상된다.
비아트론 관계자는 “기존 에피택시 CVD 장비의 생산성 한계(UPH 1매 이하)는 3D DRAM 전환의 핵심 병목 중 하나”라며 “자사 장비는 기존 대비 5배 이상 생산성과 인시스템 계측·검사를 통한 실시간 모니터링으로 수율을 극대화해 대량양산이 가능하다”고 말했다.
비아트론은 내년부터 글로벌 반도체 제조사와 협업을 통해 양산성 평가에 돌입할 예정이다.
김영호 기자 lloydmind@etnews.com
