국내 중소 반도체 장비 기업인 아이엠티가 세계적 노광(리소그라피) 장비 기업인 네덜란드 ASML과 30나노급 공정의 차세대 노광장비를 공동 개발키로 했다. ASML은 전 세계 반도체 시장에서 3위 자리를 차지하고 있으며 국내 반도체 공정라인에 550개 이상의 노광장비를 설치·지원하고 있다.
아이엠티(대표 최재성)는 새로운 광원을 사용하는 차세대 노광 장비인 ‘EUV(Extreme Ultraviolet) 노광 장비’ 상용화를 위해 연구개발 협력계약을 체결했다고 9일 밝혔다. ASML은 EUV 노광장비를 현재 시제품 형태로 개발, 연구기관에 2대 공급했을 뿐 신뢰성 문제로 양산 라인에 실제 적용하지 못하고 있다.
아이엠티는 이의 일환으로 EUV 노광 장비용 세정 장치를 ASML에 최근 공급, 양사의 개발 인력들이 정보를 교류하고 있다. 아이엠티의 세정장비는 레이저 충격파를 이용해 마스크의 이물질 등을 세척하는 건식 방식을 채택한 것으로 아이엠티는 미국 FSY 등 선진 세정 장비업체를 제치고 ASML과 파너트십을 체결했다.
특히 차세대 장비인 EUV 노광 장비 양산을 위해선 마스크 기판(블랑크스)의 구조가 기존 노광 장비 보다 매우 복잡해져 세정에 특수한 노하우가 필요한데 ASML이 그동안 여러 세정 장비업체들과 접촉, 성능을 평가한 끝에 아이엠티의 레이저 세정 기술을 최종 낙점했다.
이에 따라 아이엠티가 시제품 수준인 ASML의 EUV 노광장비를 양산 수준에 도달하는 데 기여한다면 반도체 공정에서 혁신을 불러일으킬 전망이다.
45 나노 공정 이하의 세대에서는 1회 노광에 의한 패턴 형성이 어려워, 반도체 기업들은 더블 패터닝(2회 반복) 형태로 40 나노급 제품을 양산 또는 개발하고 있어 EUV 노광 장비의 생산 라인 도입시 공정 시간 단축으로 원가를 크게 절감할 수 있기 때문이다.
아이엠티 관계자는 “반도체 생산 공정에서 발생하는 오염 물질을 레이저 충격파를 이용해 효과적으로 제거하는 기술을 2005년 세계 최초로 개발, 삼성전자에 납품했고 이번 ASML과의 협력을 통해 또 다시 기술력을 입증받았다”며 “후공정 세정장비에서 전공정 세정 장비 분야로 확대한다”고 말했다.
안수민기자 smahn@etnews.co.kr