일본 히타치제작소가 이르면 오는 2000년 초부터 자사 마이크로프로세서 SH5 생산에 구리 배선 기술을 도입한다.
「닛케이일렉트로닉스」에 따르면 히타치는 최근 내년 말까지 구리 배선 기술을 도입한 양산라인의 실험 가동을 마치고 오는 2000년 1·4분기부터 0.18㎛ 상보성금속산화막반도체(CMOS) 기술을 채용한 구리 배선 SH5의 샘플출하를 시작할 계획이라고 밝혔다.
〈심규호 기자〉
일본 히타치제작소가 이르면 오는 2000년 초부터 자사 마이크로프로세서 SH5 생산에 구리 배선 기술을 도입한다.
「닛케이일렉트로닉스」에 따르면 히타치는 최근 내년 말까지 구리 배선 기술을 도입한 양산라인의 실험 가동을 마치고 오는 2000년 1·4분기부터 0.18㎛ 상보성금속산화막반도체(CMOS) 기술을 채용한 구리 배선 SH5의 샘플출하를 시작할 계획이라고 밝혔다.
〈심규호 기자〉