반도체장비업체인 APTC(대표 김남헌 http://www.iAPTC.com)는 반도체웨이퍼 에처시스템인 ‘셀렉스(Selex) 200<사진>’를 전자통신연구원(ETRI)에 납품했다고 27일 밝혔다.
이 장비는 반도체 드라이 에칭 공정에 들어가는 옥사이드(oxide)와 폴리(poly) 공정을 진행할 수 있는 장비다.
드라이 에처는 반도체 제조공정에서 웨이퍼 표면의 패턴(미세회로)을 형성하기 위해 패턴 이외의 불필요한 부분을 제거하는 전공정 핵심장비로, 제거하는 물질 종류에 따라 폴리, 옥사이드, 메탈 에처 등으로 나뉜다.
APTC는 지난 2002년 초에 설립돼 50명의 국내외 반도체 장비 및 소자 관련 업체 출신 엔지니어들이 주축인 회사로, 메탈 에칭 체임버와 시스템을 개발해 하이닉스에 공급한 바 있다.
한편 APTC는 국책사업으로 진행중인 300㎜ 옥사이드 드라이 에처의 개발도 이미 마친 상태며, 조만간 하이닉스 측과 JDP 계약을 할 예정이다.
드라이 에처시장에서는 국내 주성엔지니어링, 세메스, APTC 등과 미국의 어플라이드머티리얼, 램리서치, 일본 TEL 등이 경쟁하고 있다.
심규호기자@전자신문, khsim@