대구경북과학기술원(DGIST·총장 국양)은 DGIST 중앙기기센터가 보유한 CMOS(상보형 금속산화반도체) 제작이 가능한 반도체 공정 소자클린룸을 확대·개방한다고 12일 밝혔다.
관련 시설을 갖추지 못한 기업이나 연구소, 교육기관 등에 시설을 제공할 예정이다. 향후 CMOS 기반 차세대 반도체용 연구소자 기술개발에 다양하게 활용할 수 있을 것으로 기대된다.
CMOS는 반도체 칩의 일종이다. 일반적인 금속산화 반도체에 접합해 상보회로를 구성해 구현된 집적도가 높고 소비전력이 적은 반도체다. 휴대용 소형제품에서 널리 사용한다.
DGIST 중앙기기센터는 이번에 지능형반도체 연구역량 제고 및 반도체 제조 공정 활용 가치창출을 목표로 0.5㎛급 CMOS 표준공정 라인을 추가 구축했다. 단위공정 수준이 아닌 일괄된 소자제작이 가능해졌다. CMOS 레벨에서 구동해야 하는 연구용 소자 테스트, CMOS 기반 반도체 신소자 및 소재개발 플랫폼 제공, CMOS 단위 웨이퍼 제공, CMOS 기반 교육서비스 지원 등 반도체 관련 연구 및 교육에 널리 활용될 예정이다.
DGIST 중앙기기센터는 이에 앞서 반도체공정 및 나노분석 지원이 가능한 수준급 연구 플랫폼을 구축하고, 소재·소자 검증, 분석, 실증이 가능한 일괄 서비스를 제공해왔다. 특히, 6인치 기반 반도체 공정 소자클린룸을 보유 중이다. 실리콘계 반도체 공정, MEMS 및 마이크로 가공, 통신소자, 센서 및 계측시뮬레이션 등 첨단장비 170여종을 구축해 운영하고 있다.
이봉호 센터장은 “세계 파운드리 시장 증가와 국내 산학연 연구개발 필요성이 높아짐에 따라 이번 CMOS 표준공정 라인 확대구축을 진행하게 됐다. 향후 지역기업을 포함한 여러 연구진들의 차세대 반도체분야 연구에 많은 보탬이 될 수 있을 것”이라 말했다.
대구=정재훈기자 jhoon@etnews.com
