장비.재료분야
반도체 산업을 흔히 장치 산업이라고 말한다. 반도체 소자 생산에서 장비 및 재료 기술이 차지하는 비중이 그만큼 크다는 얘기다.
하지만 국내 반도체 장비 및 재료 기술은 미국, 일본 등 다른 반도체 선진국들에 비해 매우 열악한 형편이다. 지난해 국내 반도체 장비 시장 규모는 31억5천만달러 정도로 이중 80% 이상이 해외에서 수입됐다. 재료 분야 또한 국내 자급률이 45% 수준에 머물고 있다.
이처럼 장비 및 재료 분야의 기반 기술이 취약한 상황에서 2백56MD램, 시스템 IC 등의 차세대 반도체 시장에서 주도권을 장악하는 일은 현실적으로 불가능하다고 이번 보고서는 지적한다.
따라서 개발 가능한 장비 품목을 선정, 이에 집중 투자함으로써 기술적 우위를 확보하고 세계 시장에서 경쟁할 수 있는 아이템으로 육성시켜 나가야 한다는게 이 분야 기획 사업안의 주요 골자이다.
또한 이번 보고서는 기가 D램급 이상 반도체 제조에 사용될 수 있는 고성능 재료의 개발을 위해 재료 분석 및 평가와 성능 개선을 추진할 수 있는 종합적인 기술 지원 체계를 구축해야한다고 주장한다.
이에 따른 구체적인 사업 추진 전략으로 개발 지원 대상 장비 및 재료에 대한 폭넓은 의견 수렴을 위해 산, 학, 연 전문가로 구성된 실무위원회를 구성하고 이를 통해 국내외 현황조사 및 단계별 발전 방안을 수립하는 동시에 「반도체 장비 및 재료 종합발전계획」을 작성해 나갈 계획이다.
또한 외국 업체들과의 기술제휴, 공동연구, 합작생산 등을 적극 장려하고 공용부품 및 핵심 모듈의 개발도 추진한다는 전략이다.
특히 중점개발분야로는 반도체 장비의 경우 에처, 트랙, 기계, 화학적연마(CMP) 장비, 웨이퍼 세정시스템, 화학증착장비(CVD) 등이 있으며 반도체 재료 분야에서는 포토레지스트, 포토마스크, 웨이퍼 등이 그 대상이다.
이러한 첨단 장비 및 재료 개발을 위해 보고서는 2002년까지의 1단계 기간에 장비분야 2천1백50억원, 재료분야 7백50억원을 합쳐 총 2천9백억원을 투자하며 목표년도인 2010년까지 총 9천4백원을 사업 예산으로 잡고 있다.
이를 통해 0.1 미크론의 초미세 회로 공정에까지 적용가능한 반도체 장비 및 재료를 개발하는 한편 독자적인 생산 기반을 조성, 2010년경에는 장비 및 재료 국산화율을 60%와 85% 대로 각각 끌어올리다는 것이 이번 사업의 최종 목표이다.
또한 국산 장비 및 재료의 수출을 적극 장려함으로써 장비의 경우 2010년 세계 반도체 장비 시장에서 12%의 시장 점유율을 달성하고 재료분야는 12% 정도의 점유율을 차지할 수 있을 것으로 보고서는 전망했다.
결국, 반도체 장비 및 재료 분야를 내수 중심이 아닌 해외 수출 전략 산업으로 육성함으로써 무역 역조 현상 개선은 물론 고부가가치 산업으로 발전시켜 나가야한다는 것이 이번 장비 및 재료 분야 기반기술강화방안의 핵심 내용이다.
<주상돈 기자>