"반도체 핵심기술, 中 유출" 특허청 6명 기소

대기업 직원 등 3명 구속
피해액만 최소 1000억원
웨이퍼 연마공정 등 열람
디지털포렌식 통해 추적

26일 김시형 산업재산보호협력국장이 정부대전청사에서 열린 기자 브리핑을 통해 반도체 국가 핵심기술 중국 유출 사건을 설명하고 있다.
<26일 김시형 산업재산보호협력국장이 정부대전청사에서 열린 기자 브리핑을 통해 반도체 국가 핵심기술 중국 유출 사건을 설명하고 있다.>

반도체 국가 핵심기술을 중국에 유출한 일당이 검거됐다.

특허청 기술디자인특별사법경찰과 대전검찰청은 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출한 국내 대기업·중견기업 전 직원 3명을 구속하는 등 모두 6명을 기소했다고 26일 밝혔다.

기술유출을 당한 기업은 3곳으로 최소 피해액만 1000억원 이상인 것으로 조사됐다.

주범인 A(55)씨는 자신이 근무하던 기업 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP 슬러리) 제조사업 동업을 약정하고 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축 및 사업을 관리했다. 또 다른 회사 연구원 B(52)·C(42)·D(35)씨를 스카우트해 중국으로 이직시키고 2020년 5월부터 자신도 사장급으로 이직해 근무한 것으로 드러났다.

이들은 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 기밀자료를 열람, 개인 휴대전화로 사진 촬영하는 수법 등으로 유출한 혐의를 받고 있다.

유출 자료에는 반도체 웨이퍼 연마제 및 연마패드 관련 첨단기술은 물론 반도체 웨이퍼 연마공정 관련 국가 핵심기술, 영업비밀까지 포함돼 있다.

기술경찰은 지난해 국가정보원 산업기밀보호센터로부터 중국업체로 이직한 연구원 2명(E·F씨)에 대한 첩보를 받아 수사에 착수했다. 중국에 체류하던 C씨 등이 순차로 일시 귀국하자 공항경찰과 공조해 추적하거나 국정원 공조 하에 잠복수사를 펼쳐 소재지를 급습, 압수수색 영장을 집행하는 등 방법으로 신속하게 증거를 확보했다.

그 과정에서 반도체 웨이퍼 연마기술 무단유출 및 사용 증거 등을 다량 확보했고 디지털포렌식 증거 분석을 통해 연구원 이직을 주도한 추가 공범 4명이 있는 사실을 확인했다. 또 기업 영업비밀까지 유출된 정황을 발견해 추가 입건하고 전원 출국금지 조치로 중국 업체 복귀를 막았다.

김시형 특허청 산업재산보호협력국장은 “해당 사건은 기술경찰이 최초로 구속영장을 신청해 주범 3명을 검찰에 송치한 사건인 점에서 의미가 크다”며 “반도체 연구 인력이 해외로 이직해 기술유출 유혹을 받지 않도록 특허청 심사관으로 재취업 기회를 제공하는 등 기술범죄 원천 차단을 위해 노력하겠다”고 말했다.

대전=양승민기자 sm104y@etnews.com