삼성전자가 올해 시설 투자에 84조4000억원을 집행한다.
삼성전자는 29일 시설투자 올해 규모를 이같이 밝히면서 디바이스솔루션(DS·반도체) 부문에 76조8000억원, 디스플레이에 3조9000억원 수준이 투입될 것이라고 설명했다.
지난해 시설투자 규모는 총 50조3000억원으로, DS 부문과 디스플레이에 각각 47조5000억원과 2조8000억원이 집행됐다. 올해 시설 투자 총액은 전년 대비 67.8% 늘어날 전망이다.
삼성전자는 “DS부문은 메모리 반도체의 경우 견조한 인공지능(AI) 수요와 중장기 대응을 위한 신규 공장(팹) 등 인프라에 투자하고, 위탁생산(파운드리)의 경우 급증하는 AI·고성능컴퓨팅(HPC) 시장과 고객 수요에 적기 대응하기 위해 미국 테일러 팹 중심으로 투자할 계획”이라고 밝혔다.
이어 “디스플레이는 기존 라인 보완과 성능 향상을 위해 투자할 예정”이라고 덧붙였다.
삼성전자는 3분기 연구개발(R&D) 비용에 14조4000억원을 투입했다. 미래 기술 경쟁력 확보를 위한 투자를 지속한다는 방침이다.
이호길 기자 eagles@etnews.com
